晶圓廠潔凈室:半導(dǎo)體制造的微觀守護(hù)者
日期:2024-11-01 09:31:00 瀏覽量:727 標(biāo)簽: 創(chuàng)芯檢測(cè)
在半導(dǎo)體組件與微細(xì)加工的精密世界中,每一個(gè)微小的塵埃顆粒都可能成為影響產(chǎn)品質(zhì)量的關(guān)鍵因素。因此,晶圓廠中的潔凈室成為了確保半導(dǎo)體制造過程順利進(jìn)行的重要設(shè)施。
潔凈室,顧名思義,是一個(gè)旨在隔絕粉塵和其他污染物進(jìn)入的密閉空間。在半導(dǎo)體制造過程中,由于空間單位以微米計(jì)算,微塵顆粒的沾附可能會(huì)對(duì)晶圓上的精密導(dǎo)線布局造成嚴(yán)重影響,導(dǎo)致電性短路或斷路等嚴(yán)重后果。因此,潔凈室的存在變得至關(guān)重要。
潔凈室的潔凈等級(jí)有一個(gè)公認(rèn)的標(biāo)準(zhǔn)。以class 10為例,這意味著在單位立方英尺的空間內(nèi),平均只有粒徑0.5微米以上的粉塵10粒。潔凈等級(jí)的數(shù)字越小,潔凈度越高,但相應(yīng)的造價(jià)也更為昂貴。這種高潔凈度的環(huán)境是通過一系列專業(yè)技術(shù)和嚴(yán)格的管理辦法來實(shí)現(xiàn)的。
首先,潔凈室內(nèi)部需要保持大于1個(gè)大氣壓的環(huán)境,以確保粉塵只出不進(jìn)。這通常通過大型鼓風(fēng)機(jī)將經(jīng)過濾網(wǎng)的空氣源源不斷地打入潔凈室中來實(shí)現(xiàn)。同時(shí),為了保持溫度和濕度的恒定,大型空調(diào)設(shè)備需要與鼓風(fēng)加壓系統(tǒng)相配合。
其次,潔凈室內(nèi)的氣流方向設(shè)計(jì)也至關(guān)重要。為了減少粉塵在潔凈室內(nèi)回旋停滯的機(jī)會(huì)與時(shí)間,所有氣流方向均以由上往下為主。此外,潔凈室的室內(nèi)空間設(shè)計(jì)和機(jī)臺(tái)擺放調(diào)配也盡量減少突兀之處。
在建材選擇方面,潔凈室主要使用不易產(chǎn)生靜電吸附的材質(zhì),以防止靜電吸附帶來的粉塵污染。同時(shí),所有人事物進(jìn)出潔凈室都必須經(jīng)過空氣吹浴的程序,以去除表面粉塵。
人體及衣物的毛屑是潔凈室中粉塵的主要來源之一。因此,進(jìn)出潔凈室的人員必須穿戴無塵衣,除了眼睛部位外,均需與外界隔絕接觸。在次微米制程技術(shù)的工廠內(nèi),工作人員甚至需要穿戴得像航天員一樣嚴(yán)密。此外,化妝、鉛筆等可能產(chǎn)生粉塵的物品也被禁止使用。
除了空氣外,潔凈室中水的使用也受到嚴(yán)格限制。為了防止水中粉粒和重金屬離子污染晶圓和晶體管結(jié)構(gòu),潔凈室只能使用去離子水。去離子水以電阻率來定義好壞,一般要求電阻率達(dá)到17.5MΩ-cm以上才算合格。為了獲得合格的去離子水,需要使用多重離子交換樹脂、RO逆滲透和UV紫外線殺菌等處理過程。
此外,潔凈室中所有用得到的氣源,包括吹干晶圓和機(jī)臺(tái)空壓所需要的氮?dú)猓脖仨氝_(dá)到高純度要求。吹干晶圓的氮?dú)馍踔烈?9.8%以上的高純氮。
綜上所述,晶圓廠潔凈室是半導(dǎo)體制造過程中不可或缺的重要設(shè)施。它通過一系列專業(yè)技術(shù)和嚴(yán)格的管理辦法,為半導(dǎo)體制造提供了一個(gè)高潔凈度的環(huán)境,從而確保了產(chǎn)品的質(zhì)量和可靠性。然而,潔凈室的建造和維護(hù)費(fèi)用也相當(dāng)昂貴,這進(jìn)一步凸顯了其在半導(dǎo)體制造中的重要性。
集成電路的生產(chǎn),需要嚴(yán)格的環(huán)境標(biāo)準(zhǔn)來守護(hù),在其應(yīng)用之中,同樣需要高質(zhì)量的保駕護(hù)航。深圳創(chuàng)芯在線檢測(cè)實(shí)驗(yàn)室(簡(jiǎn)稱:創(chuàng)芯檢測(cè))作為專業(yè)、權(quán)威、高效且富有創(chuàng)新精神的元器件檢測(cè)機(jī)構(gòu),長(zhǎng)期服務(wù)元器件應(yīng)用領(lǐng)域,是經(jīng)中國合格評(píng)定國家認(rèn)可委員會(huì)(CNAS)認(rèn)可和廣東省市場(chǎng)監(jiān)督管理局(CMA)資質(zhì)認(rèn)定的檢測(cè)機(jī)構(gòu)。
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